半導体製造装置の内部を冷却しつつ、プロセスで発生する熱を抑えるのは大変なことです。一般的なヒーターでは、熱があちこちに散らばってしまいます。まるで、スペースヒーターを段ボール箱の中に入れるようなものです。結局、装置全体が巨大なラジエーターのようになってしまいます。その結果、高価な装置が過熱し、作業員も火傷の心配をしなければなりません。
私たちは、より良い方法を見つけました。それが「指向性赤外線加熱」です。
つまり、熱がランダムに散らばるのではなく、短波長の赤外線ランプを使って、エネルギーを正確に必要な場所に送り込むのです。これにより、装置の内壁が過熱するという問題が解消されます。必要な場所に十分な熱エネルギーが届きますが、他の部分は冷却されたままです。もう、装置の表面が焼ける心配はありません。
しかし、ただ適当なワイヤーを使うわけにはいきません。通常のPVCを使った場合、数週間以内に破損したり溶けてしまいます。これはこのような状況には向いていないのです。だからこそ、テフロン（PTFE）コーティングされたワイヤーを使用します。このワイヤーは、激しい熱にも耐えられ、化学物質が飛び交っても問題ありません。赤外線の影響を受けても、柔軟性を保ち、機能を果たし続けます。
とはいえ、配線の配置には注意が必要です。テフロンにも限界があります。もし、ワイヤーがランプの石英ケースに触れてしまったら、大変なことになります。ですから、配線を慎重に計画し、何もが直射光線の路径上に来ないようにしなければなりません。
遮蔽材や反射板をうまく使えば、熱は正確に欲しい場所に行きます。そうすれば、施設の空調システムも休めるようになり、多くの装置設計で悩ましい問題となる「過熱した壁」の問題も解決できます。