世界の半導体製造装置貿易

ファブフロアにおいて、フォトレジストのベーク中に0.1℃のドリフトが発生すると、ライン幅がナノメートル単位で変動し、数時間にわたるリソグラフィ作業が無駄になることがあります。大量生産のウェーハ製造では、熱の再現性は「あれば良い」ものではなく、プロセスそのものです。当社の超精密熱システムは、クラス...