In der Fertigungsstätte bedeutet eine Temperaturänderung von 1°C während des Trocknungsvorgangs des Photolacks nicht nur einen kleinen Fehler auf dem Monitor – vielmehr führt dies zu Schwankungen in der Breite der Linien, zu Ungleichmäßigkeiten beim Ätzen sowie zu Ausschusswaren. Wir haben unsere Halbleiter-Infrarotheizlampen so konstruiert, dass diese Unregelmäßigkeiten beseitigt werden.
Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler, die Wärme direkt auf den Wafer und das Substrat übertragen – dabei erfolgt die Übertragung schnell und direkt. Dadurch wird eine Reaktionszeit von unter einer Sekunde erreicht, und die Temperaturverteilung auf der Oberfläche des Wafers liegt innerhalb von ±0,1°C. Diese Präzision ermöglicht eine bessere Kontrolle der kritischen Abmessungen bei der Lithografie sowie ein gleichmäßiges Ergebnis nach dem Ätzen.
Das System eignet sich für Reinräume und ist kompatibel mit Umgebungen der Klassen 1–100. Zudem sorgt es dafür, dass während des Betriebs keine Partikel vorhanden sind. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg stabil – mit weniger als 5% Intensitätsverschiebung. Dadurch kann das System rund um die Uhr betrieben werden, ohne dass große Wartungsarbeiten erforderlich sind.
Warum es dort funktioniert, wo wir es brauchen:
Bei der Verarbeitung des Photolacks bestimmen die Schritte des sanften und intensiven Trocknens die Entfernung der Lösungsmittel sowie die Vernetzung der Polymere. Mit unseren Lampen ist die Temperaturverteilung auf dem Wafer reproduzierbar – dadurch entstehen weniger Defekte und das Ergebnis nach der Belichtung und dem Ätzen ist vorhersehbar.
Der schnelle thermische Zyklus verkürzt außerdem die Zeit zwischen den Prozessschritten, was wiederum die Produktivität erhöht, ohne dass der Energieverbrauch steigt. In der Produktion bedeutet das weniger Nachbearbeitung, eine stabile Ausbeute und geringere Betriebskosten pro Wafer.
Die praktischen Aspekte:
Die Lampen sind kompakt und modular aufgebaut – doch die Ausrichtung bezüglich der Waferoberfläche ist entscheidend. Achten Sie darauf, dass die Entfernung zwischen Strahler und Substrat genau kontrolliert wird. Zudem sollten Sicherheitsmechanismen sowie Temperaturüberwachungssysteme vorhanden sein.
Die Integration in die jeweiligen Geräte ist einfach möglich – allerdings ändert sich die thermische Masse je nach Design des Chucks. Führen Sie vor der Einführung in die Produktion eine kurze Qualifizierungsprüfung durch.