曝光后烘烤 PEB 加热器

在光刻车间，线宽控制的成败取决于曝光后烘烤（PEB）阶段。温度漂移仅几度，或晶圆表面温度不均匀，就会导致CD偏差和报废。我们的PEB加热器旨在消除这种变异因素。 核心要点 我们关注的是烘烤表面晶圆级温度均匀性±0.1℃，以及光刻胶温度精度保持在工艺所需的严格热预算内。设计采用短波红外元件，实现快速...