Trên dây chuyền sản xuất, sự thay đổi nhiệt độ 1°C trong quá trình nung phim phơi ảnh không chỉ là một sai số nhỏ được hiển thị trên màn hình mà còn gây ra các vấn đề như sự thay đổi độ dày của các đường viền trên bề mặt wafer, sai lệch trong quá trình khắc, và tỷ lệ wafer bị hỏng cao. Chúng tôi đã thiết kế những bóng đèn sưởi bằng tia hồng ngoại để loại bỏ những biến động nhiệt độ này.
Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật
Chúng tôi sử dụng các bóng đèn phát tia hồng ngoại tần số thấp, giúp truyền nhiệt trực tiếp vào wafer và bề mặt nền một cách nhanh chóng. Điều này giúp kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác, với độ chính xác lên đến ±0,1°C trên toàn bộ bề mặt wafer. Độ chính xác này giúp kiểm soát kích thước các chi tiết trên wafer một cách tốt hơn, đồng thời đảm bảo chất lượng sau quá trình khắc.
Hệ thống này phù hợp với môi trường phòng sạch loại 1–100, và được thiết kế sao cho số lượng hạt bụi trong môi trường hoạt động luôn ở mức bằng không. Cường độ ánh sáng từ bóng đèn duy trì ổn định trong hơn 5.000 giờ, với sai số dưới 5%. Do đó, hệ thống có thể hoạt động 24/7 mà không cần bảo trì thường xuyên.
Tại sao hệ thống này lại hiệu quả trong môi trường sản xuất
Trong quá trình xử lý phim phơi ảnh, các bước nung mềm và nung cứng giúp loại bỏ dung môi và tạo liên kết giữa các phân tử polymer. Với bóng đèn của chúng tôi, nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer được kiểm soát một cách chính xác, giúp giảm tối đa các khiếm khuyết và đảm bảo chất lượng sau quá trình phơi ảnh và khắc.
Chu kỳ nhiệt độ nhanh cũng giúp rút ngắn thời gian xử lý wafer, từ đó tăng năng suất sản xuất mà không làm tăng mức tiêu thụ năng lượng. Trong sản xuất, điều này giúp giảm số lượng wafer bị hỏng, đảm bảo tỷ lệ sản phẩm tốt, và giảm chi phí vận hành cho mỗi wafer.
Chi tiết kỹ thuật
Các bóng đèn này có kích thước nhỏ và dễ lắp đặt, nhưng việc đảm bảo khoảng cách từ bóng đèn đến bề mặt wafer là rất quan trọng. Hãy đảm bảo rằng khoảng cách này được kiểm soát chặt chẽ, đồng thời có hệ thống phản hồi nhiệt độ hiệu quả.
Việc tích hợp hệ thống này vào các thiết bị sản xuất khá đơn giản, tuy nhiên khối lượng nhiệt có thể thay đổi tùy theo thiết kế của máy nâng wafer. Hãy tiến hành kiểm tra ngắn gọn trước khi áp dụng hệ thống này vào quy trình sản xuất thực tế.