Ra trên dây chuyền, bạn biết cách vận hành: chỉ cần lệch nửa độ trong quá trình soft bake cũng đủ làm sai lệch kiểm soát kích thước quan trọng. Đó chính xác là thực tế mà đèn sấy wafer DNS (Screen) được thiết kế để đáp ứng. Thiết bị duy trì độ đồng đều nhiệt ở mức ±0.1°C trên toàn bộ chuck wafer, đảm bảo các profile nung photoresist được giữ ổn định—từng lần chiếu, từng lô sản xuất.
Cấu tạo kỹ thuật bên trong
Đèn sử dụng nguồn hồng ngoại sóng ngắn bên trong vỏ thạch anh, được điều chỉnh để phù hợp với khả năng hấp thụ của các lớp photoresist mà chúng ta sử dụng. Đáp ứng nhiệt dưới một giây, độ lặp lại nhiệt độ giữ trong phạm vi 1°C sau hơn 5.000 giờ vận hành, với suy giảm công suất dưới 5%. Module được thiết kế cho phòng sạch Class 1–100, với đường dẫn kiểm soát hạt và không phát sinh hạt ngay tại điểm gia nhiệt. Công suất đầu ra được hiệu chuẩn để cung cấp ngân sách nhiệt lặp lại, đồng thời tương thích hoàn toàn với các nền tảng máy sấy chuẩn của Screen.
Lý do ứng dụng trong hỗ trợ lithography
Trong hỗ trợ lithography, đèn ổn định cả quá trình soft bake và hard bake, giảm thiểu dao động chiều rộng đường mạch và loại bỏ nhu cầu sửa chữa lại. Kiểm soát tốc độ tăng nhiệt rút ngắn thời gian chu trình mà không ảnh hưởng đến chất lượng lớp màng, đồng thời tiết kiệm năng lượng nhờ quá trình gia nhiệt nhanh và tập trung. Thiết kế cho phép vận hành liên tục 24/7 mà không xảy ra gián đoạn ngoài kế hoạch, đồng thời giảm thiểu thay thế vật tư tiêu hao—giúp quá trình sản xuất duy trì liên tục.
Những điều cần lưu ý khi lắp đặt và vận hành
Lắp đặt đòi hỏi căn chỉnh chính xác với hệ quang học và chuck của máy sấy, đồng thời duy trì đèn trong phạm vi điện áp định mức để bảo toàn độ đồng đều nhiệt. Có thời gian khởi động ngắn, và cần kiểm tra định kỳ cường độ để duy trì độ đồng đều ±0.1°C. Phải lựa chọn đèn phù hợp với mẫu máy sấy cụ thể để giữ nguyên cửa sổ quy trình đã thiết lập.