Litografi Hattında
Hat genişliği kontrolü, poz sonrası pişirmede kazanılır veya kaybedilir. Sadece birkaç derece sıcaklık kayması veya wafer üzerindeki düzensizlikler, CD sapmaları ve atık ile karşı karşıya kalmanıza neden olur. PEB ısıtıcılarımızı, bu değişkenliği denklemin dışına almak için geliştirdik. Arka planda önemli olanlar Pişirme yüzeyinde ±0.1°C seviyesinde wafer düzeyinde sıcaklık birliği ve prosesinizin gerektirdiği sıkı termal bütçe içinde kalan fotoresist sıcaklık hassasiyeti ile ilgileniyoruz. Tasarım, hızlı ve temiz enerji transferi için kısa dalga kızılötesi elemanlar kullanarak, aşırı ısınma olmadan hızlı ramp oranları sağlar. Sınıf 1-100 temiz odalar için tasarlanmış olan muhafaza ve iç parçalar, döngü döngü kirlenme sayısını azaltarak sıfır partikül üretmek üzere mühendislik ile geliştirilmiştir. Güvenilirlik, basitleştirilmiş termal yapı ve sağlam bir kontrol döngüsünden gelir; birimler, minimal kayma ile on binlerce döngü çalıştıracak şekilde sahada kanıtlanmıştır. Hattaki önemi Yüksek hacimli fabrikalarda, PEB tekrarlanabilirliği, sürekli verim ile sürekli duraklamalar arasındaki çizgidir. Bu ısıtıcılar, küçük sıcaklık kaymalarının CD’leri ve yüzey parametre hatalarını etkilediği ileri düğümlerin gerektirdiği termal istikrarı sağlar. Sonuç olarak, parti boyunca daha sıkı dağılımlar, daha az yeniden işleme ve güvenilir pişirme süreleri elde edersiniz. Kazanç, öngörülebilir litografi performansı, daha az atık ve stabil kalan günlük bir programdır. Öncelikle bilmeniz gerekenler Isıtıcı, uluslararası yarı iletken ekipman standartları için doğrudan ve eşdeğer bir değişimdir, ancak entegrasyon detayları hala önemlidir. Odanızın geometrisinin, montaj arayüzünün ve güç kaynağının bizim ayak izimiz ve elektriksel spesifikasyonlarımızla eşleştiğinden emin olun. Devreye alma süreci kısadır—sadece fotoresist yığınınıza ramp profillerini ayarlamak için yeterlidir. Ayarlandığında, ünite orijinal gibi termal olarak davranır ve süreç tarifinizi yeniden yazmanızı zorunlu kılmaz.