On the litho floor, fotoresist niyetle ilgilenmez—sıcaklığa tepki verir. Yumuşak pişirme işlemi wafer boyunca sadece 1°C saparsa, bu sapma parti...

Fabrika ortamında, fotoresist pişirme veya wafer kurutma sırasında termal kayma sadece verimliliği düşüren bir etken değildir. Kritik boyutları...