Di fasiliti pengeluaran semikonduktor, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah masalah kecil. Ia akan menyebabkan variasi ketebalan garisan pada permukaan wafer, ketidakseimbangan semasa proses etching, serta peningkatan jumlah wafer yang rosak. Kami telah mencipta lampu pemanas inframerah khusus untuk mengurangkan variasi suhu tersebut.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan pengeluar cahaya inframerah gelombang pendek yang mampu memindahkan haba secara langsung ke wafer dan substrat dengan cepat. Ini membolehkan respons yang sangat cepat, serta kestabilan suhu sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Ketepatan ini membantu mengawal dimensi kritis bahan semikonduktor dengan lebih baik, serta memastikan hasil etching yang konsisten.
Sistem ini sesuai digunakan dalam lingkungan bilik bersih bertaraf Class 1–100. Ia juga direka untuk memastikan tiada zarah debu di dalam sistem semasa operasi berterusan. Prestasi sistem tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti cahaya kurang dari 5%. Oleh itu, sistem ini boleh digunakan 24/7 dengan penyelenggaraan yang minimum.
Mengapa ia berkesan di tempat yang diperlukan
Dalam proses pemprosesan fotoresist, langkah pemanasan yang betul sangat penting untuk membuang bahan pelarut dan memastikan ikatan antara polimer berlaku dengan baik. Dengan lampu yang kami gunakan, profil suhu pada permukaan wafer menjadi konsisten. Ini memastikan adhesi yang baik, pengurangan kecacatan, dan prestasi yang dapat diramalkan selepas proses pendedahan dan etching.
Kitaran pemanasan yang cepat juga memendekkan masa yang diperlukan untuk memproses wafer, sekaligus meningkatkan kelajuan pengeluaran tanpa meningkatkan penggunaan tenaga. Dalam pengeluaran, ini akan mengurangkan jumlah wafer yang perlu diperbaiki, meningkatkan kadar pengeluaran yang stabil, dan mengurangkan kos operasi per wafer.
Butiran praktikal
Lampu-lampu ini bersaiz kompak dan boleh disusun secara modular. Namun, penyesuaian kedudukan lampu terhadap permukaan wafer sangat penting. Pastikan jarak antara lampu dan substrat tepat, dan pastikan terdapat mekanisme kawalan suhu yang efektif.
Pemasangan lampu ini mudah dilakukan pada kebanyakan permukaan wafer. Namun, perlu diambil kira perubahan jisim haba akibat reka bentuk chuck. Lakukan ujian pendek sebelum menggunakan sistem ini secara rasmi.