
Berhentilah Menggunakan Alat MEMS sebagai “Pembakar”
Jika Anda pernah menggunakan pemanas konvektif biasa untuk mengeringkan wafer, Anda pasti tahu betapa sulitnya hal tersebut. Anda berusaha mengeringkan wafer, tetapi akhirnya seluruh bagian dalam alat tersebut menjadi panas. Dinding-dinding alat yang mahal ini menyerap energi panas tersebut seolah-olah seperti spons.
Akibatnya, permukaan luar alat menjadi sangat panas sehingga berbahaya jika disentuh. Biaya listrik pun menjadi sangat tinggi. Ini merupakan pemborosan.
Kami telah menemukan cara yang lebih baik: pemanasan inframerah terarah.
Cara kerjanya
Bayangkan saja, pemanasan konvektif ibarat mencoba memanaskan seseorang dengan memanaskan setiap inci udara di dalam ruangan. Cara ini tidak efisien.
Sedangkan pemanasan inframerah berbeda. Ia menggunakan gelombang elektromagnetik untuk mengirimkan energi langsung ke permukaan wafer. Kita tidak perlu memanaskan udara atau dinding alat tersebut. Energi panas ditumpahkan tepat di tempat yang membutuhkannya.
Bingkai baja alat tersebut tetap dingin, karena energi panas hanya dialirkan ke tempat yang memang diperlukan.
Hal-hal yang perlu diperhatikan
Kami biasanya menggunakan penghasil gelombang inframerah berfrekuensi pendek. Mengapa? Karena bahan-bahan yang digunakan dalam proses pengeringan MEMS lebih efektif menyerap gelombang inframerah tersebut. Selain itu, kita juga dapat menggabungkannya dengan kontroler yang respons cepat, agar wafer tidak terbakar secara tidak sengaja.
Namun, ada beberapa hal yang perlu diperhatikan. Lampu inframerah memiliki intensitas cahaya yang tinggi. Jika posisi lampu sedikit saja salah, maka akan terjadi masalah. Permukaan wafer akan menjadi panas, atau komponen tertentu yang seharusnya tidak dipanaskan justru akan terpanaskan. Anda perlu memilih reflektor yang tepat agar sudut pancaran cahaya sesuai dengan kebutuhan.
Mengapa ini memudahkan segalanya
Dengan menghilangkan masalah “dinding panas” ini, segalanya menjadi lebih mudah. Para operator tidak perlu khawatir akan terbakar saat mendekati alat tersebut. Sistem HVAC juga tidak perlu bekerja keras untuk menjaga suhu ruangan tetap dingin, karena alat tersebut tidak bertentangan dengan kondisi lingkungan sekitar.
Prosesnya menjadi lebih cepat, dan alat ini juga membutuhkan ruang yang lebih sedikit. Secara keseluruhan, cara ini membuat proses pengeringan wafer menjadi lebih mudah.