Di bilik proses pembuatan cip, perubahan suhu yang berlaku dalam chamber Lam Research bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan. Perubahan ini akan mempengaruhi kawalan suhu pada lapisan fotoresist, serta kualiti hasil pengeluaran cip. Apabila pemanas mula mengalami perubahan suhu, suhu yang digunakan untuk proses pembakaran fotoresist juga akan berubah, dan ini akan menjejaskan keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer. Oleh itu, penggantian komponen pemanas perlu dilakukan dengan cara yang tepat, agar fungsi pemanasan dapat dipulihkan seperti sedia kala.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami merancang pengganti pemanas Lam Research supaya ia dapat mengekalkan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C sepanjang proses pengeluaran. Dengan cara ini, prestasi proses pembakaran fotoresist akan tetap konsisten. Anda boleh memilih jenis elemen pemanas yang sesuai – halogen, gelombang pendek, gelombang sederhana, atau NIR – agar ia sesuai dengan respons termal chamber tersebut. Ini akan membantu mengelakkan masalah seperti suhu yang terlalu tinggi atau terlalu rendah. Komponen pemanas ini dibuat daripada kuarsa berkualiti tinggi, dan sistem pengedapnya juga direka untuk memastikan persekitaran yang bersih, sesuai dengan standard Cleanroom Class 1–100. Penggunaan tenaga juga dapat dikurangkan, kerana elemen pemanas ini dapat mencapai suhu yang diinginkan dengan cepat, tanpa memerlukan banyak kitaran pemanasan. Ini seterusnya mengurangkan beban termal pada chamber dan fasiliti tersebut.
Proses pemasangan pemanas baru ini hanya memerlukan satu perkara: pastikan spesifikasi pemanas tersebut sama dengan spesifikasi asal Lam Research. Lakukan proses pembakaran yang terkawal dan ujian untuk memastikan kebersihan sebelum menggunakan pemanas tersebut semula dalam proses pengeluaran.