
Di fasiliti pengeluaran, perubahan suhu semasa proses aktivasi bahan dopan, proses pembakaran fotoresist, dan proses pembakaran yang lebih intensif bukan sahaja mengganggu kualiti produk, tetapi juga boleh merosakkannya sepenuhnya. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk proses aktivasi bahan dopan, agar suhu dapat dikawal pada tahap yang diperlukan oleh proses tersebut, bukan sekadar pada suhu yang ditentukan oleh ruang pengeluaran itu sendiri.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Pemancar inframerah berfrekuensi rendah ini memanaskan permukaan wafer dengan cepat dan tepat, dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C. Ini memastikan profil aktivasi bahan dopan kekal stabil, serta menjadikan proses pembakaran fotoresist lebih konsisten. Modul kuarsa-halogen pula membolehkan kawalan spektrum yang tepat, sehingga suhu dapat dicapai dengan cepat tanpa menambah beban haba pada sistem.
Fasiliti ini juga sesuai untuk digunakan dalam lingkungan kelas kebersihan 1–100: bahan-bahan yang digunakan mempunyai kadar pelepasan gas yang rendah, komponen-komponennya disegel dengan baik, dan geometri aliran udara direka untuk mengurangkan jumlah zarah debu. Ini memastikan kualiti produk tetap terjaga, terutamanya dalam proses litografi yang sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Ketekalan hasil pengeluaran juga terjamin, dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain.
Mengapa ia berguna di fasiliti pengeluaran:
Dalam praktiknya, proses pembakaran yang dilakukan dapat membersihkan pelarut tanpa merosakkan permukaan wafer. Proses pembakaran yang lebih intensif pula dapat membantu proses pengeringan bahan tanpa menyebabkan masalah seperti aliran balik atau pembentukan endapan. Proses aktivasi bahan dopan pula berjalan secara stabil, sehingga variasi difusi di seluruh permukaan wafer dapat dikawal dengan baik.
Ini mengurangkan keperluan untuk melakukan kerja pembaikan. Kawalan ketepatan dimensi wafer juga menjadi lebih baik. Masa yang diperlukan untuk menyelesaikan satu siklus pengeluaran juga dapat dirancang dengan lebih baik. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana tindak balas pemanas yang cepat dan penggunaan tenaga semasa proses “standby” yang minimum. Pemanas ini juga boleh beroperasi 24/7—tanpa masalah berkaitan suhu yang tidak stabil.
Apa yang perlu diperhatikan semasa pemasangan:
Semasa pemasangan, pemanas perlu disesuaikan dengan laluan cahaya dan sistem penyejukan di dalam ruang pengeluaran. Penyelarasan reflektor dan aliran cecair penyejuk juga perlu diperiksa semasa proses pengujian awal.
Terdapat tempoh penstabilan pendek sebelum suhu dapat dicapai dengan tepat. Oleh itu, penyesuaian berkala perlu dilakukan untuk memastikan ketepatan suhu tetap berada dalam lingkungan ±0.1°C sepanjang proses pengeluaran.