팹에서는 도핑제 활성화 과정, 포토레지스트의 소프트 베이크 및 하드 베이크 과정에서 발생하는 온도 변동이 단순히 수율에 영향을 미치는 것이 아니라, 수율 자체를 완전히 망가뜨릴 수 있습니다. 저희는 도핑제 활성화를 위한 적외선 히터를 설계할 때, 공정이 실제로 필요로 하는 온도를 유지하도록 했습니다. 즉, 챔버 내부의 온도가 변동해도 그 영향을 받지 않도록 한 것입니다.
기술적으로 중요한 점 저희의 단파 적외선 방출기는 빠르고 직접적으로 열을 공급하며, 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 일관되게 유지합니다. 이를 통해 활성화 과정이 안정적으로 진행되고, 포토레지스트의 베이크 과정도 일관된 결과를 보장합니다. 석영-할로겐 모듈을 사용함으로써 스펙트럼을 정밀하게 제어할 수 있어, 목표 온도에 빠르게 도달할 수 있으며 에너지 낭비도 최소화됩니다.
클린룸 등급 1–100과의 호환성도 고려되었습니다. 방출되는 가스가 적은 재료와 밀폐된 구조, 그리고 입자가 들어오지 않도록 설계된 구조 덕분에, 리소그래피 공정에서 허용될 수 없는 온도 변동을 방지할 수 있습니다. 반복성도 매우 뛰어나서, 한 번 설정된 온도를 계속 유지할 수 있습니다.
팹에서의 장점 실제로는 용매를 효과적으로 제거하는 소프트 베이크가 가능하며, 재흐름이나 부산물이 생기지 않는 하드 베이크도 가능합니다. 도핑제 활성화 과정도 안정적으로 진행되므로, 웨이퍼 전체의 온도 변동도 최소화됩니다.
재작업이 줄어들고, 웨이퍼의 형상 제어도 더욱 정확해집니다. 사이클 타임도 예측 가능합니다. 빠른 반응 속도와 최소한의 대기 상태로 인해 에너지 사용량도 줄어듭니다. 게다가 이 장비는 24/7 작동할 수 있으며, 핫스팟이나 갑작스러운 온도 변동도 없습니다.
중요한 점 설치 시에는 히터가 챔버의 광경로 및 냉각 시스템과 정확하게 연동되도록 해야 합니다. 반사판의 위치와 냉각수의 흐름도 점검해야 합니다.
일정한 온도가 확보되기까지는 약간의 시간이 필요합니다. 따라서 장기간 사용하기 위해서는 정기적인 교정이 필요합니다.