Sấy Khô on Cozy Infrared Heating Solutions

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Sun, 19 Jul 2026 08:32:42 +0800

Hãy ngừng biến các công cụ MEMS của bạn thành những “lò nướng” đi! Nếu bạn từng sử dụng máy sấy kiểu đối lưu để sấy các tấm wafer, chắc hẳn bạn đã hiểu rõ những khó khăn mà nó gây ra. Bạn cố gắng sấy tấm wafer, nhưng thực chất lại làm nóng toàn bộ buồng sấy. Các bức tường bên trong máy hấp thụ hết năng lượng được sử dụng, giống như chiếc bọt biển vậy.

Kiểm toán năng lượng cho quy trình sấy tại nhà máy

Mon, 29 Jun 2026 02:45:00 +0800

Hãy quan sát viên wafer khi nó được rửa sạch lần cuối; bạn sẽ biết ngay điều gì xảy ra tiếp theo – thời gian bắt đầu tính từ lúc viên wafer rời khỏi nước. Phương pháp sấy thông thường, với mức sai số chỉ 0,5°C trên bề mặt wafer, có thể gây ra các vấn đề như căng thẳng ở lớp da của wafer, các khiếm khuyết trong quá trình xử lý hóa chất, và sự xuất hiện của các hạt bẩn. Chúng tôi thiết kế hệ thống sấy siêu chính xác này dựa trên một tiêu chuẩn cố định: độ đồng đều nhiệt độ ở mức ±0,1°C trên toàn bộ bề mặt wafer, trong mỗi chu kỳ xử lý.

Máy sấy quần áo

Tue, 23 Jun 2026 13:00:27 +0800

Chúng tôi chế tạo chiếc máy sấy quần áo này sau khi nhận thấy vấn đề tương tự xảy ra liên tục: quần áo sau khi được giặt vẫn còn mùi ẩm mốc khó chịu. Vấn đề không chỉ nằm ở thời gian sấy mà còn ở việc làm sao để nhiệt lượng được phân bố đều vào các sợi vải, mà không làm cháy phần bề mặt vải trong khi phần bên trong vẫn còn ướt.

Đèn sấy trong sản xuất OLED

Tue, 09 Jun 2026 01:00:51 +0800

Trên dây chuyền OLED, bạn không có bất kỳ biên lợi nhuận nào. Một lần sấy mềm dao động chỉ 1°C cũng làm lệch hồ sơ photoresist. Một lần sấy cứng không đồng đều sẽ âm thầm làm giảm hiệu suất. Và trong một nhà máy hoạt động 7×24, bước làm khô không phải là lúc tạm dừng. Nó là một giới hạn phải được duy trì, giờ này qua giờ khác.

Những yếu tố kỹ thuật quan trọng

Chúng tôi thiết kế đèn làm khô sản xuất OLED dựa trên tính năng cung cấp nhiệt ổn định và sạch sẽ, có thể lặp lại. Các bóng halogen sóng ngắn cho phản ứng nhanh và kiểm soát nhiệt chặt chẽ. Vỏ thạch anh và hình học phản xạ đảm bảo độ đồng đều ở mức wafer trong phạm vi ±0.1°C trên toàn bộ vùng sấy.
Thiết bị tương thích với phòng sạch Class 1–100, và thiết kế đảm bảo không phát sinh hạt bụi trong quá trình vận hành. Số lượng hạt bụi duy trì trong giới hạn tiêu chuẩn mà không cần tăng bộ lọc.