Vakum on Cozy Infrared Heating Solutions

Pemanas inframerah yang serasi digunakan bersama vakum.

Thu, 23 Jul 2026 09:32:46 +0800

Mengekalkan Keselamatan Apabila Pemanas Inframerah Digunakan bersama Bahan Kimia yang Mudah Terbakar
Jika anda menggunakan pemanas inframerah dalam proses pembersihan bahan kimia, anda pasti sudah tahu betapa berbahayanya situasi tersebut. Terdapat wap-wap mudah terbakar yang berterbangan di sekeliling, dan tekanan vakum pula menyebabkan segala benda terdedah kepada risiko kebakaran. Dalam suasana seperti ini, penggunaan lampu biasa bukan sahaja merupakan pilihan yang buruk, tetapi juga boleh membahayakan keselamatan.

Itulah sebabnya kami mencipta pemanas inframerah yang sesuai untuk digunakan dalam keadaan vakum, dengan lapisan pelindung khas. Tujuannya adalah untuk memastikan tiada apa-apa yang boleh terbakar atau rosak pada saat yang tidak dijangka.

Komponen pemanas untuk ketuhar vakum

Tue, 07 Jul 2026 00:09:01 +0800

Kebenaran yang kejam tentang elemen pemanas dalam ketuhar vakum
Mari kita terus ke inti masalahnya. Di dalam ketuhar vakum, keadaannya sangat sukar bagi elemen pemanas untuk berfungsi dengan baik. Ia merupakan persekitaran yang sangat keras dan tidak bersahabat.

Kami mencipta elemen pemanas ini dengan memastikan ia dapat berfungsi di bawah tekanan yang tinggi. Elemen tersebut perlu memberikan haba yang konsisten dan boleh dipercayai, hari demi hari, tanpa mengalami kegagalan. Tiada pelepasan gas, tiada kerosakan yang tidak dijangka. Itulah standard yang kami tetapkan untuk diri sendiri.

Pemanas inframerah ruang vakum

Mon, 08 Jun 2026 02:38:56 +0800

Di lantai fabrikasi, pergeseran 0.5°C semasa proses pemanggangan photoresist sudah cukup untuk mengalihkan sasaran dimensi kritikal (CD) dan mula mengurangkan hasil. Pemanas inframerah dalam ruang vakum digunakan untuk menghapuskan variasi tersebut semasa soft bake dan hard bake—langkah di mana bajet terma tidak boleh dirunding.

Apa yang penting di peringkat dalaman
Inframerah gelombang pendek menyerap permukaan wafer dan ruang dengan cepat, memindahkan haba secara langsung dan mengurangkan kelewatan terma. Kami mensasarkan uniformiti pada tahap wafer ±0.1°C dalam tingkap proses, dan kebolehulangan setpoint kekal konsisten dari satu lot ke lot berikutnya. Badan pemanas dibina untuk kegunaan bilik bersih Kelas 1–100, dengan bahan berkeluaran gas rendah dan kemasan yang meminimumkan penghasilan partikel hampir kepada sifar. Dalam vakum, suhu kekal stabil walaupun tekanan dan komposisi gas berubah—membolehkan tumpukan litografi dan etsa menerima sejarah terma yang konsisten.