Pada lantai litho, photoresist tidak mengambil kira niat—ia bertindak balas kepada suhu. Jika suhu soft bake anda berubah walaupun 1°C merentasi...

Di lantai fabrik, drift thermal semasa pembakaran photoresist atau pengeringan wafer bukan hanya pembunuh throughput. Ia mengubah dimensi kritikal...