<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(PEB) on Cozy Infrared Heating Solutions</title>
		<link>http://ir-heater-cozy.com/ms/tags/peb/</link>
		<description>Recent content in (PEB) on Cozy Infrared Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 00:51:13 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-cozy.com/ms/tags/peb/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas bakar selepas pendedahan (PEB)</title>
				<link>http://ir-heater-cozy.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 00:51:13 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-cozy.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-cozy.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Pemanas bakar selepas pendedahan (PEB)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada tingkat litografi, kawalan lebar garis dimenangi atau hilang dalam proses pasca-pendedahan bakar. Perubahan suhu hanya beberapa darjah sahaja, atau ketidakseeragaman di seluruh wafer, dan anda akan berhadapan dengan penyimpangan CD dan pembaziran. Kami membina pemanas PEB kami untuk menghapuskan variabiliti tersebut daripada persamaan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di bawah hud&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami bercakap mengenai keseragaman suhu tahap wafer sebanyak ±0.1°C di seluruh permukaan bakar, dan ketepatan suhu photoresist yang kekal dalam bajet terma yang &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;ketat&lt;/a&gt; yang diperlukan oleh proses anda. Reka bentuk menggunakan elemen inframerah gelombang pendek untuk pemindahan tenaga yang cepat dan bersih, supaya kadar peningkatan suhu adalah pantas tanpa lebihan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
