Lampada essiccatrice per wafer DNS (Screen)

Tue, 02 Jun 2026 03:49:24 +0800

Out on the line, sai come va: una deriva di mezzo grado nel soft bake è sufficiente per far uscire il controllo delle dimensioni critiche dalle specifiche. Questa è esattamente la realtà per cui è stato progettato il DNS (Screen) wafer dryer lamp. Mantiene l’uniformità termica a livello wafer entro ±0,1°C su tutto il chuck, così i profili di cottura del photoresist restano stabili—colpo dopo colpo, lotto dopo lotto.

Cosa c’è sotto il cofano, tecnicamente
La lampada utilizza una sorgente a infrarossi a onda corta contenuta in un involucro di quarzo, sintonizzata per corrispondere all’assorbimento degli strati di photoresist che utilizziamo. La risposta è sotto il secondo e la ripetibilità della temperatura si mantiene entro 1°C per oltre 5.000 ore, con un calo di output inferiore al 5%. Il modulo è progettato per cleanroom Class 1–100, con un percorso a controllo particellare e generazione zero di particelle proprio nel punto di riscaldamento. L’output è calibrato per fornire un budget termico ripetibile e si interfaccia in modo pulito con le piattaforme standard di asciugatura Screen.

Wafer on Cozy Infrared Heating Solutions

Lampada essiccatrice per wafer DNS (Screen)