Di pabrik pembuatan semikonduktor, perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanggangan photoresist bukanlah hal yang sepele. Perubahan tersebut akan berdampak pada variasi lebar garis, ketidakseragaman proses etching, serta peningkatan jumlah wafer yang rusak. Kami menciptakan lampu pemanas inframerah khusus untuk mengurangi variabilitas suhu tersebut.
Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan emitor inframerah berfrekuensi rendah, sehingga panas dapat disalurkan langsung ke wafer dan substrat dengan cepat. Dengan demikian, respons sistem sangat cepat, dan tingkat keseragaman suhu di permukaan wafer mencapai ±0,1°C. Tingkat presisi seperti ini memungkinkan kontrol dimensi yang lebih baik dalam proses litografi, serta hasil etching yang konsisten.
Sistem ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan dirancang agar jumlah partikel di dalamnya tetap nol saat sistem beroperasi secara stabil. Keluaran lampu tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan intensitas cahaya kurang dari 5%. Dengan demikian, sistem ini dapat beroperasi 24/7 tanpa memerlukan perawatan rutin yang sering.
Mengapa sistem ini efektif di tempat yang dibutuhkan:
Dalam proses pengolahan photoresist, langkah pemanggangan yang tepat sangat penting untuk proses penghilangan pelarut dan pengikatan polimer. Dengan menggunakan lampu kami, profil suhu di seluruh permukaan wafer menjadi konsisten, sehingga tercipta adhesi yang baik, sedikitnya cacat, serta kinerja yang dapat diprediksi setelah proses eksposur dan etching.
Selain itu, siklus pemanasan yang cepat juga membantu mempercepat proses produksi, tanpa menaikkan konsumsi energi. Hal ini berarti lebih sedikit wafer yang perlu diperbaiki, tingkat produksi yang lebih stabil, serta biaya operasional yang lebih rendah per wafer.
Detil teknis:
Lampu-lampu ini berukuran kompak dan modular, namun penyesuaian posisi lampu terhadap permukaan wafer sangat penting. Pastikan jarak antara emitor dan substrat tepat, dan pastikan adanya mekanisme pengendali suhu yang efektif.
Pengintegrasian lampu-lampu ini cukup mudah pada sebagian besar permukaan wafer, meskipun massa termal akan berubah sesuai desain chucknya. Lakukan uji coba singkat sebelum menggunakannya secara langsung.