DNS (Bildschirm) Wafer Trocknerlampe

Tue, 02 Jun 2026 03:49:24 +0800

Out on the line, you know how it goes: eine halbe Grad Abweichung beim Soft Bake reicht aus, um die Kontrolle der kritischen Abmessungen komplett außer Toleranz zu bringen. Genau für diese Anforderung wurde die DNS (Screen) Wafer-Trocknerlampe entwickelt. Sie hält die thermische Gleichmäßigkeit auf Wafer-Ebene innerhalb von ±0,1°C über den gesamten Chuck, sodass Ihre Fotolack-Backprofile stabil bleiben – schussgenau und von Charge zu Charge.

Was technisch unter der Haube steckt
Die Lampe verwendet eine Kurzwellige Infrarotquelle in einem Quarzhüllrohr, abgestimmt auf die Absorption der von uns eingesetzten Fotolackstapel. Die Reaktionszeit liegt im Sub-Sekundenbereich, und die Temperaturwiederholgenauigkeit bleibt innerhalb von 1°C über mehr als 5.000 Stunden Betriebszeit, bei weniger als 5% Leistungsverlust. Das Modul ist für Reinraumklasse 1–100 ausgelegt, mit einem partikelfreien Strahlengang und Null Partikelentstehung direkt an der Heizzone. Die Leistung ist kalibriert, um ein reproduzierbares thermisches Budget zu liefern, und die Schnittstelle ist kompatibel mit den gängigen Screen-Trocknerplattformen.

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