Na litho podlaze si fotoresist nedělá starosti s úmyslem – reaguje na teplotu. Nechte svůj soft bake kolísat i o 1°C na waferu a uvidíte, že toto...

Na výrobní ploše není tepelný drift během sušení fotorezistu nebo sušení wafrů pouze problémem propustnosti. Posouvá kritické rozměry a tiše snižuje...