На производственной площадке отклонение температуры на уровне 1°C во время процесса обработки фоторезиста не является незначительным фактором – это приводит к изменениям ширины линий на поверхности пластины, искажениям при процессе этchingа, а также к потере качества готовых изделий. Мы разработали инфракрасные нагревательные лампы, способные устранять такие отклонения.
Что имеет значение с технической точки зрения
Мы используем низковолновые инфракрасные излучатели, которые передают тепло непосредственно на пластину и подложку за счет быстрой и прямой передачи тепла. Это позволяет достичь скорости реакции менее чем за секунду, а также обеспечивает однородность температуры по всей поверхности пластины с точностью до ±0,1°C. Такая точность способствует более точному контролю размеров деталей при литографии и сохранению стабильных параметров после процесса этchingа.
Система предназначена для использования в чистых помещениях класса 1–100. Она обеспечивает отсутствие частиц в воздухе во время работы. Выходная мощность остается стабильной в течение более 5 000 часов, с отклонением менее 5%. Это позволяет работать круглосуточно с минимальными затратами на техническое обслуживание.
Почему это работает там, где это необходимо
В процессе обработки фоторезиста этапы мягкой и жесткой обработки определяют степень удаления растворителей и процесс связывания полимеров. Благодаря нашим лампам температурный профиль на поверхности пластины остается стабильным, что позволяет добиться высокого качества оклейки поверхности пластины, снижения количества дефектов и стабильных результатов после процесса экспозиции и этchingа.
Быстрый термический цикл также сокращает время обработки пластины, что повышает производительность оборудования без увеличения энергопотребления. На производстве это приводит к снижению количества бракованных изделий, повышению производительности и снижению затрат на производство одной пластины.
Практические детали
Лампы имеют компактный и модульный дизайн, но крайне важно правильно настроить их положение относительно поверхности пластины. Необходимо обеспечить точную фокусировку излучателя относительно подложки, а также наличие механизмов контроля температуры. Интеграция ламп в систему происходит легко на большинстве платформ, однако тепловая масса может меняться в зависимости от конструкции подставки. Перед использованием необходимо провести тестирование для определения оптимальных параметров работы ламп.