Kijk hoe de wafer uit het laatste spoelproces komt. Dan weet je meteen wat er vervolgens gebeurt: zodra de wafer het water verlaat, begint de timer te lopen. Bij conventionele droogmethoden kan er al een verschil van 0,5°C optreden op het oppervlak van de wafer. Dit kan leiden tot spanningen in de huidlaag, defecten in de fotorezerve en het ontstaan van deeltjes die zich op het oppervlak hechten. Ons ultrapreciese droogsysteme is ontworpen met één belangrijk doel voor ogen: een temperatuurgevarieerdheid van ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer, in elke cyclus.
Wat er echt toe doet
Het hart van het systeem is een thermisch module die geschikt is voor gebruik in een schone ruimte en waarbij geen deeltjes aanwezig mogen zijn. Deze module zorgt voor een temperatuurgevarieerdheid van ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer. Het gesloten controle-systeem maakt gebruik van sensoren met hoge resolutie en een lage turbulentie in de luchtstroom, zodat er geen ‘hot spots’ of koude plekken ontstaan. Hierdoor krijg je reproduceerbare temperatuurprofielen die binnen de vereiste grenzen vallen – zonder dat er overschrijdingen of afwijkingen optreden. Bovendien wordt de energieverbruik in real-time bijgehouden, zodat je precies weet hoeveel energie er per partij, per apparaat en per shift wordt verbruikt.
Waarom dit belangrijk is voor de lithografie en fotoreserverening
Temperatuurgevarieerdheid is cruciaal voor het bepalen van de precisie en de productiekwaliteit. Als het oppervlak van de wafer binnen de vereiste grenzen blijft, kun je rework en verspilling verminderen. De energieverbruiksinformatie kan worden gebruikt om de processen te verbeteren: minder luchtcirculatie zonder dat de temperatuurgevarieerdheid wordt beïnvloed, kortere opwarmtijden die nog steeds voldoen aan de vereisten, en preventieve onderhoudsacties voordat er problemen ontstaan. Het resultaat? Minder deeltjes, constante lijndiktes en lagere energieverbruik per wafer.
Enkele praktische tips
De module heeft toegang tot een schone ruimte van klasse 1–100, evenals toegang tot ventilatieapparatuur. Hij kan worden aangesloten op bestaande process controllers via standaardinterfaces. Reserveer tijd voor het afstemmen van de parameters op de behoeften van jouw fotoreserve en de gewenste opwarmtijden. Eén beperking: de strenge eisen met betrekking tot de temperatuurgevarieerdheid betekenen dat er minder ruimte is voor afwijkingen in de omgevingselementen. Houd de omgeving dus stabiel.
Het voordeel
Je krijgt procesreproductibiliteit die je kunt vertrouwen – plus een nauwkeurige meting van het energieverbruik, waardoor je beter kunt beslissen hoe je de proceslijnen moet bedienen.