Berhentilah mengubah alat MEMS anda menjadi “oven”
Jika anda pernah menggunakan pemanas konveksi biasa untuk mengeringkan wafer, pasti anda tahu betapa sukarnya proses tersebut. Anda cuba mengeringkan wafer, tetapi akhirnya keseluruhan ruang di dalam alat tersebut menjadi terlalu panas. Dinding dalaman alat tersebut menyerap semua tenaga yang digunakan, seolah-olah ia merupakan span yang menyerap air.
Akibatnya, permukaan luar alat tersebut menjadi sangat panas sehingga berbahaya untuk disentuh. Bil elektrik juga meningkat dengan mendadak. Ini merupakan pembaziran tenaga.
Kami telah menemukan cara yang lebih baik: penggunaan haba inframerah yang direka khusus untuk tujuan ini.
Bagaimana ia berfungsi
Bayangkanlah begini. Pemanasan konveksi ibarat usaha untuk memanaskan seseorang dengan memanaskan setiap inci udara di dalam bilik. Ia merupakan cara yang tidak efisien.
Haba inframerah pula berbeza. Ia menggunakan gelombang elektromagnetik untuk menghantar tenaga secara langsung ke permukaan wafer. Kita tidak perlu memanaskan udara atau dinding. Tenaga tersebut dihantar tepat ke tempat yang diperlukan agar air dapat menguap.
Rangka keluli alat tersebut tetap sejuk kerana tenaga tersebut diarahkan ke tempat yang sepatutnya.
Cabaran dan halangan yang perlu dihadapi
Kami biasanya menggunakan pencahayaan inframerah berfrekuensi rendah. Mengapa? Kerana bahan-bahan yang digunakan dalam proses pengeringan MEMS lebih efektif menyerap tenaga tersebut. Selain itu, ia boleh digabungkan dengan pengawal yang responsif, supaya wafer tidak terlalu panas.
Namun, ada juga cabarannya. Lampu inframerah mempunyai kuasa yang sangat tinggi. Jika penempatan lampu tersebut tidak tepat, ia akan menyebabkan bahagian tertentu pada wafer menjadi terlalu panas. Anda perlu memilih reflektor yang sesuai agar sudut pancaran cahaya tepat.
Mengapa cara ini memudahkan segalanya
Dengan menghilangkan masalah “dinding yang panas”, segalanya akan menjadi lebih mudah. Para pekerja tidak perlu risau tentang risiko terbakar ketika berada berdekatan dengan alat tersebut. Sistem HVAC juga tidak perlu bekerja keras untuk menyejukkan bilik, kerana alat tersebut tidak bertentangan dengan faktor persekitaran.
Ia juga lebih cepat, dan menggunakan ruang yang lebih sedikit. Secara keseluruhannya, cara ini menjadikan proses pengeringan wafer lebih mudah.