ファブ内では、ドーパントの活性化処理やフォトレジストのソフトベイク、ハードベイクの過程で生じる温度変動は、単に歩留まりを低下させるだけでなく、歩留まりを完全に台無しにしてしまいます。私たちは、プロセスが実際に必要とする温度を維持するために、ドーパント活性化用の赤外線ヒーターを開発しました。つまり、チャンバーの温度が不安定になっても、その影響を受けないようにしているのです。
技術的に重要な点 私たちの短波長赤外線エミッターは、迅速かつ直接的に加熱を行い、ウェハ全体での温度偏差は±0.1℃以内です。これにより、活性化処理のプロファイルが安定し、フォトレジストのベイク条件も一定に保たれます。また、石英・ハロゲン式のモジュールにより、スペクトルを精密に制御できるため、熱負荷を増やすことなく、所定の温度に素早く到達できます。
クリーンルームクラス1～100に適合している点も大きな利点です。低ガス放出性の材料や密封された構造、そして粒子が発生しない設計により、リソグラフィー処理にとって許容不可能な温度変動を防ぎます。再現性も高く、同じ条件で繰り返し処理が可能です。
なぜファブで役立つのか 実際には、ソフトベイクによって溶剤が除去される一方で、ウェハが損傷することはありません。また、ハードベイクによっても再溶融やスケールの発生がありません。ドーパントの活性化処理も安定した速度で進行し、ウェハ全体での拡散のばらつきも最小限に抑えられます。
再加工の回数が減り、ワークピース間の寸法精度も向上します。サイクルタイムも予測しやすくなります。応答が速く、待機時のエネルギー消費も少ないため、エネルギー使用量も削減されます。また、24時間365日稼働しても問題なく、ホットスポットや冷起動の心配もありません。
注意すべき点 設置時には、ヒーターをチャンバーの光学系や冷却システムに適切にマッチさせる必要があります。調整時には、反射板の位置や冷却液の流れを確認する必要があります。
安定した温度が得られるまでには、短いウォームアップ時間が必要です。長期間にわたって±0.1℃の範囲を維持するために、定期的な校正が必要です。