میتوانید ببینید که چگونه ویفر از فرآیند شستشوی نهایی خارج میشود؛ در همان لحظه، زمان شروع به سپری شدن میکند. روش خشککردن معمولی، حتی با اختلاف ۰.۵ درجه سانتیگراد در سطح ویفر، میتواند باعث ایجاد تنش در لایههای پوسته ویفر، نقصهایی در فرآیند استفاده از فوتورزیست و همچنین جذب ذرات به سطح ویفر شود. ما سیستم خشککردن با دقت بالای خود را بر اساس یک معیار دقیق طراحی کردهایم: یکنواختی دما در سطح کل ویفر، در هر چرخه، در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد.
چه چیزی اهمیت دارد؟
هسته این سیستم، یک ماژول حرارتی بدون ذرات است که با محیطهای پاک سازگار است و میتواند یکنواختی دما را در سطح ویفر حفظ کند. کنترل حلقه بسته از طریق سنسورهای با وضوح بالا و جریان هوای کم توربولانس انجام میشود تا نقاط داغ و سرد از بین بروند. این امر باعث ایجاد الگوهای دمایی قابل تکرار میشود؛ الگوهایی که در محدوده مناسب برای فرآیند پخت فوتورزیست باقی میمانند، بدون اینکه دما از حد مجاز خارج شود. همچنین، ما میزان انرژی مصرفی را به صورت لحظهای ردیابی میکنیم؛ بنابراین میتوانید میزان انرژی مصرفی برای هر دسته، هر دستگاه و هر شیفت را مشاهده کنید.
دلیل استفاده از این سیستم در فرآیندهای لیتوگرافی و پردازش فوتورزیست این است که یکنواختی دما، عامل کلیدی در کنترل ابعاد و کیفیت محصولات است. اگر سطح ویفر در محدوده مشخصی باقی بماند، میتوان از بازسازی و هدررفت مواد جلوگیری کرد. بازرسی انرژی نیز به چیزی تبدیل میشود که میتوانید بر اساس آن اقدام کنید؛ مثلاً کاهش جریان هوا بدون اینکه یکنواختی دما مختل شود، یا کوتاه کردن زمان لازم برای رسیدن به دمای مورد نیاز، و همچنین برنامهریزی برای تعمیرات قبل از بروز مشکلات. نتیجه این امر، کاهش تعداد ذرات، ثبات عرض خطوط و کاهش میزان انرژی مصرفی برای هر ویفر است.
نکات عملی:
این ماژول نیاز به اتصال به سیستمهای تهویه و برق در محیطهای پاک دارد؛ همچنین از طریق رابطهای استاندارد به کنترلرهای فرآیندی متصل میشود. برای تنظیم پارامترهای فرآیند بر اساس فوتورزیست مورد استفاده، به زمان کافی برای تنظیمات نیاز است. یک محدودیت این سیستم این است که یکنواختی دما بسیار بالاست؛ بنابراین باید محیط اطراف ثابت باقی بماند.
مزایا:
قابلیت تکرارپذیری بالای فرآیند، همراه با امکان ردیابی دقیق میزان انرژی مصرفی؛ این امر به شما کمک میکند تا فرآیند را بهتر کنترل کنید.